石材打磨规范工艺程序
石材打磨
规范工艺程序
一、地面石材养护施工工艺
1、清洁场地:
用尘推和吸尘器将工作面进行彻底清洁。
2、裁缝处理:
目的是解决石材缝隙两侧的石材边缘污染问题,避免出现石材缝隙黑边问题;也可以解决由于石材加工尺寸或铺装引起的缝隙不均匀问题。此部标准:开缝要直、缝口要细、石材板面不能开破。切割片的厚度以0.2为标准。
3、局部打磨整平:
对剪口特别高的地方,先用金属钢碗略微处理稍平,(必须那边高磨那边,尽可能磨宽点,避免后续工序用大机器打磨时因剪口过高而掉磨片。)
4、清缝处理:
用吸尘器或毛刷把缝口清理干净,必要时需用刀片把缝口刮干净,确保打磨后无黑边。
5、缝口抗污处理:
根据石材的品质不同涂刷不同的抗污药剂(玉石及浅色石材此部必不不可少,否则晶面完工后回有黑色暗影),避免胶质未干燥固化前胶汁渗进石材。
6、无缝处理:
又称嵌缝处理或补胶。此过程必须填补饱满:以鼓起为标准。否则,胶体固化后会收缩,打磨后会呈现半缝。
7、初磨处理(30-50号):
用12头专业石材整平机械将石材由于变形、铺装、加工等因素形成的剪口、高低不平和在施工中造成的划痕等打磨平整,并通过初磨将孔洞污染清除,为后面的孔洞修补、细磨等工序创造条件。
8、清洁石面(若需热固化修补或光固化修补才用此部工艺):
用专业机械配石材毛孔清洗刷(钢丝刷)将石材破损或断裂处的污物清洗干净,确保后续工艺中修补胶跟石材充分沾结。此部相当重要:如果不用钢丝刷清洗,石材破损处的污物无法清洗干净,自然影响修补胶跟石材的沾结度,会导致表皮脱落,进而会降低修补质量。
9、孔洞、爆边、破损修补处理。
待初磨完毕,洗净石面,待石面干燥后,检查石面。如果孔大而少,可以调制色相差不多的固体修补胶进行修补;如果孔多而小,必须用液体修补胶进行批胶修补;如果有线形破损必须先确定石材纹理颜色,再选用跟石材文理色相靠近的胶进行修补。
此部须注意:
1、如果用液体修补胶其催化剂和固化剂比例必须适中,否则胶体会久置不干或燃烧。
2、如果用液体胶必须隔天打磨。
3、如用光固化修补,须作好防紫外线措施。
10、中磨处理(150号)。
将初磨的磨痕、孔洞修补处理过程石面多余的修补胶去除,进一步调整研磨面的平整度,并为下部抛光工序作准备。此部标准:没有50号的划痕!没有残留修补胶!
11、再次修补处理。
将上部工序出现的遗漏、掉胶等问题,在此道工序进行再次修补完成。
12、边角研磨处理(简称修边):
对大型机器不能完成的边角部位或初磨和中磨留下的边线划痕,使用边角专用设备(用50-150-300-500号的水磨片配角磨机)进行边角研磨、抛光衔接处理。此部标准:边角没有剪口!边线没有毛边和划痕!
在初磨、中磨地面石材平整度已基本达标的基础上,本工序主要对石材的光泽度进行研磨加工,为下道抛光工序作准备。此部工序要点:从500号开始磨片必须放置靠边!进行压边!首先把四周边线打磨好,然后再磨中间。中间磨法同中磨工法一样,边线压边必须注意:如果用220机器打磨,须从前往后挪动机器、让机器工作盘紧贴墙面。如果用380机器,必须靠机器的角去靠近墙边。
14、石材抗病处理(根据业主要求选做):
待上述工艺完工,让石材彻底干燥(常温,至少48小时)后,用毛刷涂刷具有抑碱因子的,溶剂性,油性防护剂均匀涂刷石面。并静置24小时。
15、抛光结晶处理。
待防碱剂被石材彻底吸收后,用220机器配抛光片和进口保养结晶剂对石面进行抛光结晶处理。并洗净石面,静置24小时。
16、石材晶亮处理:
先把充足的石材晶亮剂撒在石面上,然后用白片配专业机器来回往返抛磨,直到药水基本干燥。
17、清场处理。
把四周的边角的卫生清理干净,中间大面积用尘推配静电水清洁干净。
二、墙面石材养护施工工艺
1、清缝处理:
用毛刷把缝口清理干净,必要时需用刀片把缝口刮干净,对安装工已补色相偏差较大处用切割片进行开缝处理,胶确晶面无黑边、无色带。
2、无缝处理:
又称嵌缝处理或补胶。此过程必须填补饱满:以鼓起为标准。否则,胶体固化后会收缩,打磨后会呈现半缝。
3、胶质清除:
待嵌缝胶快干时,用全新美工刀片立即将多余胶体清除干净,防止嵌缝胶在干燥过程瞬间化学反应产生高热量烧伤石面。并用除胶剂彻底清除石面残留胶体。
4、孔洞、爆边、破损修补处理:
如果孔大而少,可以调制色相差不多的固体修补胶进行修补;如果有线形破损必须先确定石材纹理颜色,再选用跟石材文理色相靠近的胶进行修补。
5、局部打磨整平:
对拼缝处超过1mm的剪口进行专业打磨平整至光亮(干磨)。
6、磨痕打磨处理:
对因安装不平,或安装时断列,迫使安装工打磨过的地方进行重新还原打磨至平整光亮。
7、清洁石面:
用专业设备和专业药剂将石面装修残留的涂料等污物清除干净。
8、抛光结晶处理。
用手体抛光机和专业保养结晶剂对石面进行抛光结晶处理。
9、清场处理:
用专业工具将抛光结晶工序中飞溅的结晶残留清除干净。
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- 编辑:孙宏亮
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